金剛石拋光液包含聚晶、單晶體和納米3種不一樣種類的拋光液。它是由優(yōu)質(zhì)的金剛石硅微粉、復(fù)合型增稠劑和助懸劑構(gòu)成，秘方多元化，相匹配不一樣的研拋全過程和產(chǎn)品工件，適用范圍強。商品分散性好、粒度分布勻稱、規(guī)格型號齊備、品質(zhì)平穩(wěn)，普遍用于硬質(zhì)的原材料的碾磨和拋光。

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       運用聚晶金剛石的特點，在碾磨拋光全過程中維持高鉆削高效率的與此同時不容易對產(chǎn)品工件造成刮傷。關(guān)鍵用于蘭寶石襯底、電子光學(xué)結(jié)晶、硬質(zhì)的夾層玻璃和結(jié)晶、超硬瓷器和鋁合金、磁帶機、電腦硬盤、集成ic等行業(yè)的碾磨和拋光。

       金剛石拋光液的恰當(dāng)操作方法是什么呢？

       1、將油基納米金剛石用于硅片拋光。用海藻酸鈉、羧甲基甲基纖維素鈉、表面活性劑及其雙蒸水配置拋光液。對超分散化納米金剛石拋光硅片開展了討論，并對干式拋光和拋光波濕式拋光開展了對比。干式拋光液使硅片表面粗糙度Ra從107nrn降至4nm。應(yīng)用油基納米拋光液濕式拋光，拋光高效率高些，而且硅片的表面粗糙度更小，抵達(dá)4nrn。

       2、一種油基納米拋光液歷經(jīng)雙蒸水中添加納米金剛石、改性材料、增稠劑、超分散劑、pH調(diào)養(yǎng)劑、潤濕劑、具備化學(xué)效用的添加物歷經(jīng)超聲波拌和將納米金剛石分散化成20~100nm的小體，做成拋光液。用于各種各樣光電材料結(jié)晶、計算機硬盤硅片、電子光學(xué)電子器件及銅對接的半導(dǎo)體材料集成電路芯片等的超細(xì)致拋光。用于硅片拋光，表面表面粗糙度達(dá)0.214nm。

       3、一種用于儲存器電腦硬盤磁帶機背面碾磨的磨削液生產(chǎn)制造法。包含十到十三個碳的烷羥礦物質(zhì)機油、十五個碳的油溶性劑、金剛石單晶體硅微粉、抗氧化性添加劑、非正離子表 面活性劑、有機硅消泡劑和抗靜電劑，將該拋光劑用于磁帶機背面拋光。碾磨后表面刮痕、表面表面粗糙度是0.3~0.4nm。

       4、納米拋光液以及生產(chǎn)制造法的造就以質(zhì)輕工業(yè)白油為物質(zhì)，參與非正離子表面活性劑、抗靜電劑、凈洗劑及其pH調(diào)養(yǎng)劑制取了不確定性不錯的納米拋光液。除開用于電子計算機磁帶機以外，還能夠用于電子光學(xué)元器件和瓷器等高精密碾磨和拋光的用處。

       5、對中等水平粒度分布納米金剛石拋光液用于磁帶機拋光加工工藝開展了討論。納米金剛石顆粒物越密，拋光表面粗糙度越小、可是二者并不組成繁雜的線性相關(guān)。拋光液的分散化不確定性非常大水準(zhǔn)上危害了表面刮痕。拋光液的起伏分散化是很重要的。制取一種水溶性納米拋光液，歷經(jīng)三乙醇胺調(diào)節(jié)pH值后，用于拋光三氧化二鋁產(chǎn)品工件，這類拋光液促使被生產(chǎn)加工產(chǎn)品工件表面更非常容易清理。

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