金相制樣的終極目的就是制備平整鏡面，用于腐蝕后觀測(cè)，或者直接觀測(cè)。磨拋的重要性顯而易見(jiàn)。拋光是制樣的階段的最后一步，也是最為重要和關(guān)鍵的一步。

　　無(wú)劃痕是磨拋步驟的關(guān)鍵衡量指標(biāo)，而劃痕其實(shí)是樣品表面光潔度的一個(gè)指標(biāo)，劃痕只有粗細(xì)之分，絕對(duì)的無(wú)劃痕是不存在的，我們通常所說(shuō)的無(wú)劃痕一般指劃痕在1微米以內(nèi)，在光學(xué)顯微鏡下基本觀測(cè)不到。

　　如何做到常規(guī)意義下的無(wú)劃痕是很多金相從業(yè)者非常關(guān)心的問(wèn)題，當(dāng)然也是很抽象的問(wèn)題，沒(méi)有唯一的答案，消除劃痕是一個(gè)系統(tǒng)性問(wèn)題，需要從磨拋的各個(gè)細(xì)節(jié)著手，具體如下：

　　1.磨拋工序粒度搭配的合理性

　　磨拋的過(guò)程就是劃痕逐級(jí)減小的過(guò)程，每道工序之間粒度跨度要設(shè)置恰當(dāng)，太大則無(wú)法有效消除，太小則造成無(wú)謂的耗材浪費(fèi)，比較經(jīng)典的搭配是砂紙的粗磨和精磨，9微米磨盤，3微米粗拋，1微米精拋。當(dāng)然根據(jù)各自的需求，也增加或刪減工序，做到量身訂制。

　　2.磨拋液的品質(zhì)可靠性

　　樣品表面的材料去除是靠磨粒來(lái)完成，磨拋液中的金剛石顆粒扮演兩個(gè)角色，去除上道工序的粗劃痕，為下道工序留下劃痕。也就是說(shuō)用細(xì)劃痕來(lái)代替了粗劃痕。因此磨拋液中磨粒的粒度控制要求很高，粒度分布必須控制在很窄的范圍內(nèi)，也是品質(zhì)懸浮液的特點(diǎn)。

　　3.磨拋盤的交叉污染

　　磨拋盤是懸浮液磨粒的載體，并且重復(fù)使用，每道工序結(jié)束后表面都會(huì)有殘留的金剛石磨粒。磨拋盤的粒度要明確限定，要杜絕可能造成的大顆粒磨粒混入，更加不可以交叉混用，這樣會(huì)引起表面的異常劃痕。

　　4.每個(gè)步驟的徹底清洗

　　清洗是防止劃痕的最有效的辦法，上道工序所遺留的大顆粒可能存在與樣品表面，樣品的縫隙，樣品夾持器等部位，這些地方的殘留都會(huì)是潛在風(fēng)險(xiǎn)源，必須要徹底清洗，必要時(shí)還需要超聲波清洗。

　　以上幾點(diǎn)就可以看出消除劃痕是一項(xiàng)復(fù)雜的工程，需要設(shè)備和耗材的保駕護(hù)航，也需要養(yǎng)成嚴(yán)謹(jǐn)和細(xì)致的制樣習(xí)慣。同時(shí)，借鑒專業(yè)人員的方法也至關(guān)重要，獲取專業(yè)金相方案供應(yīng)商的相關(guān)經(jīng)驗(yàn)就可事半功倍。

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